Nanolitografia ultra-rápida

Redação do Site Inovação Tecnológica - 07/09/2001

Pesquisadores do MIT ("Massachusetts Institute of Technology") descobriram uma forma extremamente rápida de colocar padrões regulares, em nanoescala, na superfície de filmes ultra-finos. O processo químico imprime instantaneamente minúsculos "papéis de parede" muito precisos. Essas nanoestruturas poderão ser usadas na indústria eletrônica no processo de produção de protótipos ou para gerar circuitos integrados e estruturas de componentes em equipamentos reais, em substituição ao processo litográfico tradicional.

Materiais padronizados em nanoescala já desempenham um importante papel em fotônica, biologia, na criação de dispositivos de armazenamento magnético de alta densidade e até mesmo no processo de seqüenciamento de DNA.

Os pesquisadores do MIT descobriram que nanoestruturas podem atingir características de alta padronização, através do controle do peso e volume molecular de polímeros constituídos de duas ou mais macromoléculas ligadas em blocos.

A chave para se possibilitar aplicações reais deste material está na simplicidade dos métodos de processamento, que induzem grandes áreas do filme a se alinhar de maneira ordenada, criando microestruturas bi-dimensionais. Complementando, está o fato de se gerarem superfícies com padronização virtualmente livre de erros.