Novo processo utiliza água para diminuir o tamanho dos chips

Redação do Site Inovação Tecnológica - 11/03/2004

Pesquisadores do consórcio SEMATECH, uma associação da indústria mundial de semicondutores, trabalhando em conjunto com o laboratório norte-americano NIST, criaram um novo método de produção de semicondutores que permitirá a fabricação de novas gerações de chips de computadores utilizando equipamentos atuais, que estavam prestes a serem aposentados.

A criação de chips mais poderosos baseia-se principalmente na capacidade de miniaturização de seus componentes básicos, os transistores e suas interconexões. As empresas fabricantes acreditavam estar chegando ao fim de sua vida útil os equipamentos capazes de fabricar semicondutores utilizando-se da tecnologia de 193 nanômetros. Esse número refere-se ao comprimento de onda da luz ultravioleta que "desenha" os componentes na pastilha de silício.

O novo método, batizado de litografia por imersão, utiliza uma finíssima camada de água funcionando como uma lente, lente esta que diminui o comprimento de onda efetivo da luz ultravioleta. A descoberta baseia-se no fato de que a luz viaja mais lentamente na água do que no ar. A freqüência da luz permanece a mesma, de forma que o comprimento de onda (a distância entre os picos da onda), deve diminuir para compensar a alteração na velocidade.

A descoberta permitirá que a indústria utilize os antigos equipamentos de 193 nanômetros para criar circuitos de apenas 45 nanômetros, dando nova vida a um parque industrial que estava se tornando obsoleto. O novo processo deverá economizar milhões de dólares para a indústria. Um único equipamento destes custa hoje ao redor de US$20 milhões.

Os pesquisadores agora tentarão aplicar sua descoberta nos equipamentos de 157 nanômetros. Extrapolando-se os resultados até agora alcançados, eles acreditam que esses equipamentos poderão gerar circuitos de 32 nanômetros.